În căutarea defectului util…
Fig. 2 (a) Imaginea HRTEM a unui defect planar {111} în Si hidrogenat;
(b) Profilul deplasãrilor atomice perpendicular pe defect;
(c) Model structural al defectului planar {111}
Prin cercetările derulate recent în laborator am identificat parametrii tratamentului în plasmă care limitează adâncimea de formare a defectelor la 50 nm. În prezent, se efectuează studii privind aplicarea unui tratament termic sau cu fascicul laser.
DrCorneliu GHICA CSI,
Institutul Naţional de C-D
pentru Fizica Materialelor
Parerea ta conteaza:
(0/5, 0 voturi)